出願番号 |
特願2018-506041 |
出願日 |
2017/3/17 |
出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 |
WO2017/159853 |
公開日 |
2017/9/21 |
登録番号 |
特許第6999180号 |
特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
発明の名称 |
水素の製造方法 |
技術分野 |
化学・薬品、無機材料、機械・加工 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
水素の製造方法 |
目的 |
酸素ガスが存在する雰囲気下においても、効率的に水素ガスを発生させることができ、さらに、攪拌等によって光触媒体を分散させる必要のない、新規な水素の製造方法を提供する。 |
効果 |
酸素ガスが存在する雰囲気下においても、効率的に水素ガスを発生させることができ、さらに、攪拌等によって光触媒体を分散させる必要のない、新規な水素の製造方法を提供することができる。
攪拌等によって光触媒体を分散させる必要が無いため、従来の光触媒を用いた水素製造方法と比較して、エネルギーを削減することができる。 |
技術概要
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犠牲剤を含む水溶液中に浸漬されており、沈降法による石英相当径が40μm以下の粒子を含まない光触媒体に対して、光を照射する工程を備える、水素の製造方法。 |
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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