サブミクロンサイズの微細凹凸パターンを製造する製造方法と装置

開放特許情報番号
L2016001075
開放特許情報登録日
2016/6/9
最新更新日
2017/10/31

基本情報

出願番号 特願2016-017264
出願日 2016/2/1
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2017-136701
公開日 2017/8/10
発明の名称 サブミクロンサイズの微細凹凸パターンを製造する製造方法と装置
技術分野 機械・加工、情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 サブミクロンサイズの微細凹凸パターンを形成するための方法及び装置
目的 少ない工程で、スタンパーを使用せずに、透明基材表面上の任意の形状の領域に長期的な使用に耐え得る機械的な強度を有するサブミクロンサイズの凸部が二次元的に配列したドットアレイ構造を有する微細凹凸パターンを直接形成する技術を提供する。
効果 多段階の工程や環境負荷の高いプロセス、スタンパーの使用を必要とせず、透明基材表面上の任意の形状の領域にサブミクロンサイズの凸部が二次元的に配列したドットアレイ構造を有する微細凹凸パターンを直接形成することができる。
技術概要
官能基が3つ以上のアクリレート又はそのアクリレートを単官能アクリレート及び/若しくは2官能アクリレートで希釈したものを主要成分とする光重合性の反応液を透明基材の一方の表面に接触させた状態で、3光束又はそれ以上の光束のレーザー光を透明基材の他方の表面から入射して、透明基材の前記一方の表面側で交差する状態にして、光の干渉による空間的な光強度パターンを形成し、光強度パターン形状に対応したサブミクロンサイズの凸部が二次元的に配列したドットアレイ構造を有する微細凹凸パターンを透明基材の前記一方の表面に形成することを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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