荷電粒子ビーム分布測定システムおよび荷電粒子ビーム分布測定方法

開放特許情報番号
L2016000974
開放特許情報登録日
2016/5/30
最新更新日
2016/5/30

基本情報

出願番号 特願2013-212385
出願日 2013/10/9
出願人 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号 特開2015-075410
公開日 2015/4/20
発明の名称 荷電粒子ビーム分布測定システムおよび荷電粒子ビーム分布測定方法
技術分野 情報・通信、電気・電子
機能 制御・ソフトウェア、検査・検出
適用製品 荷電粒子ビーム分布測定システム、荷電粒子ビーム分布測定方法
目的 中性子線に対して耐性をもち、かつ、ビームの形状によらずに荷電粒子ビームの分布を測定できる荷電粒子ビーム分布測定システム8および荷電粒子ビーム分布測定方法を提供する。
効果 中性子線に対して耐性をもち、かつ、ビームの形状によらずに荷電粒子ビームの分布を測定できる荷電粒子ビーム分布測定システムおよび荷電粒子ビーム分布測定方法を提供することができる。
技術概要
荷電粒子ビーム分布測定システム8を、荷電粒子ビームが照射されると照射領域18に温度変化が生じる遮蔽膜17と、遮蔽膜17の照射領域18以外の少なくとも一部を冷却する冷却部20と、遮蔽膜17の少なくとも照射領域18の温度分布を測定する赤外線カメラ15と、赤外線カメラ15によって測定した温度分布からビーム分布を算出するコンピュータ7とで構成した。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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