被印刷基材の表面構造及びその製造方法 

開放特許情報番号
L2016000133
開放特許情報登録日
2016/1/28
最新更新日
2018/8/23

基本情報

出願番号 特願2017-546539
出願日 2016/10/17
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2017/069081
公開日 2017/4/27
発明の名称 被印刷基材の表面構造及びその製造方法
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 被印刷基材
目的 低コストで、しかも、印刷工程を変更することなく、高精細、高アスペクト比の印刷を可能にすること。
効果 1μm以下の高解像印刷が可能。
技術概要
被印刷基材に微細な構造を形成し、局所的に表面濡れ性を制御し、スクリーン印刷装置やインクジェット装置などの液体状印刷装置を用いて、高精細、高アスペクト比の印刷を実現する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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