被印刷基材の表面構造及びその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2016000133
- 開放特許情報登録日
- 2016/1/28
- 最新更新日
- 2021/10/28
基本情報
出願番号 | 特願2017-546539 |
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出願日 | 2016/10/17 |
出願人 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | |
公開日 | 2017/4/27 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
発明の名称 | 被印刷基材の表面構造及びその製造方法 |
技術分野 | 機械・加工 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 被印刷基材 |
目的 | 低コストで、しかも、印刷工程を変更することなく、高精細、高アスペクト比の印刷を可能にすること。 |
効果 | 1μm以下の高解像印刷が可能。 |
技術概要![]() |
被印刷基材に微細な構造を形成し、局所的に表面濡れ性を制御し、スクリーン印刷装置やインクジェット装置などの液体状印刷装置を用いて、高精細、高アスペクト比の印刷を実現する。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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