被印刷基材の表面構造及びその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2016000133
- 開放特許情報登録日
- 2016/1/28
- 最新更新日
- 2021/10/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2017-546539 |
|---|---|
| 出願日 | 2016/10/17 |
| 出願人 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2017/4/27 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 | 被印刷基材の表面構造及びその製造方法 |
| 技術分野 | 機械・加工 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | 被印刷基材 |
| 目的 | 低コストで、しかも、印刷工程を変更することなく、高精細、高アスペクト比の印刷を可能にすること。 |
| 効果 | 1μm以下の高解像印刷が可能。 |
技術概要![]() |
被印刷基材に微細な構造を形成し、局所的に表面濡れ性を制御し、スクリーン印刷装置やインクジェット装置などの液体状印刷装置を用いて、高精細、高アスペクト比の印刷を実現する。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
|---|---|
その他の情報
| 関連特許 |
|
|---|

