マイクロ電極の電極表面の処理方法、表面処理マイクロ電極の製造方法及び表面処理マイクロ電極   

開放特許情報番号
L2015001685
開放特許情報登録日
2015/10/19
最新更新日
2017/2/27

基本情報

出願番号 特願2015-093240
出願日 2015/4/30
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2016-211882
公開日 2016/12/15
発明の名称 マイクロ電極の電極表面の処理方法、表面処理マイクロ電極の製造方法及び表面処理マイクロ電極
技術分野 情報・通信
機能 その他
適用製品 マイクロ電極の電極表面の処理方法、表面処理マイクロ電極の製造方法及び表面処理マイクロ電極
目的 簡便かつ効率的に電極表面積を増大させることのできるマイクロ電極の電極表面の処理方法及び表面処理マイクロ電極の製造方法、並びに電極表面積が大きい表面処理マイクロ電極を提供する。
効果 簡便かつ効率的に電極表面積を増大させることのできるマイクロ電極の電極表面の処理方法及び表面処理マイクロ電極の製造方法、並びに電極表面積が大きい表面処理マイクロ電極を提供することができる。
技術概要
遊離可能な水素イオンの濃度に換算して0mMを超えて100mM未満の酸性溶液に浸された、導電性細線を備えるマイクロ電極に対して印加処理する工程を含む、マイクロ電極の電極表面の処理方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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