平刷版を用いたパターン膜形成方法、形成装置

開放特許情報番号
L2015001647
開放特許情報登録日
2015/10/19
最新更新日
2016/11/30

基本情報

出願番号 特願2015-055140
出願日 2015/3/18
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2016-175192
公開日 2016/10/6
発明の名称 平刷版を用いたパターン膜形成方法、形成装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 パターン膜の形成方法および形成装置
目的 反転転写印刷と同等の矩形断面形状で、パターンサイズによらずほぼ一定膜厚のインク膜のパターンが形成できること、凸版や凹版等の凹凸構造体を用いず、単一材料からなるインク膜用表面に100nmを超える段差を有しないブランケットを用いてパターニングができること、使用するブランケットは容易に形成できるものであること、を同時に達成することが可能な、パターン膜形成技術を提供する。
効果 本発明のパターン膜形成方法やパターン膜形成装置によれば、パターン幅に拘わらずほぼ均一な膜厚で、かつ、断面形状が矩形状のパターン膜が得られるので、電極膜、配線膜、絶縁膜等の各種のパターン膜の形成に用いることができ、また、このような各種の膜を順次積層して形成することにより、各種デバイスの製造にも用いることができる。
また、様々なパターンをオンデマンドに近い工数で印刷形成可能になり、したがってパターニング技術を含む変量多品種生産などに好適に利用することができる。
技術概要
単一材料からなるインク膜用表面を有する第一および第二のブランケットを用いるパターン膜形成方法であって、第一のブランケットの高付着性部位と低付着性部位とからなるインク膜用表面は、単一材料からなる表面に対し部分的に化学的または物理的処理を施すことにより形成され、高付着性部位と低付着性部位の段差が100nm以下のものであることを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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