水素ガス感応性膜及びその製造方法

開放特許情報番号
L2015001638
開放特許情報登録日
2015/10/19
最新更新日
2016/10/27

基本情報

出願番号 特願2015-042773
出願日 2015/3/4
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2016-161507
公開日 2016/9/5
発明の名称 水素ガス感応性膜及びその製造方法
技術分野 情報・通信、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 水素ガス感応性膜及びその製造方法
目的 良好な水素ガス感応性を有する水素ガス感応性膜及びその製造方法の提供。
効果 酸化タングステンからなる調光層上に触媒層を与えた水素ガス感応性膜であって、内部有機物及びハロゲン化物を脱離させたことによる触媒層境界への不規則連通孔を調光層に有する水素ガス感応性膜を与え、結果として、より良好な水素ガス感応性を有する水素ガス感応性膜を比較的容易に与えることができる。
技術概要
酸化タングステンからなる調光層上に触媒層を与えた水素ガス感応性膜である。内部生成物を脱離させたことによる触媒層境界への不規則連通孔を調光層に有する。また、その製造方法は、ハロゲン化タングステンと炭素数を1〜4とするアルコールとを混合して調製した溶液を基板上に塗布し乾燥させる基層形成工程と、この上に白金族金属化合物と有機溶媒とを混合して調製した溶液を塗布する保護層形成工程と、還元性ガス雰囲気下で紫外線を照射しハロゲン化タングステンを酸化タングステンに、白金族金属化合物を白金族金属にする紫外線処理工程と、を含む。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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