三次元凸形状へのパターン膜形成装置および形成方法

開放特許情報番号
L2015001607
開放特許情報登録日
2015/10/19
最新更新日
2016/9/28

基本情報

出願番号 特願2015-022212
出願日 2015/2/6
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2016-144878
公開日 2016/8/12
発明の名称 三次元凸形状へのパターン膜形成装置および形成方法
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 印刷によるパターン膜の形成技術
目的 ブランケット表面における所定パターンのインク膜の形成が容易で、かつ、ブランケット表面のインク膜を半球面や鋭角端面等の三次元凸形状を有する被印刷面に対して欠落なく転写できるパターン膜形成装置やパターン膜形成方法を提供する。
効果 パッド印刷におけるパッドと異なり、非転写時のブランケットの表面が平滑であるため、その表面に対して所定パターンのインク膜や均一膜厚のインク膜の形成が容易である。
必要なパターンの一部が欠落することはない。
現在最も高精細パターニングが可能であるとされる反転転写印刷と同等のパターニングが可能である。
技術概要
三次元凸形状を有する被印刷面の最大高低差以上の厚みを有するクッション層と、シリコーンゴムからなる表面層とを有し、非転写時に前記表面が平滑なブランケットと、ブランケットの前記平滑な表面に所定パターンのインク膜を形成するインク膜形成手段とを具備し、ブランケットの前記表面に形成された所定パターンのインク膜を前記被印刷面に転写することを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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