有機EL素子およびスパッタ成膜方法

開放特許情報番号
L2015001575
開放特許情報登録日
2015/10/19
最新更新日
2017/8/31

基本情報

出願番号 特願2016-098889
出願日 2016/5/17
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2016-219417
公開日 2016/12/22
発明の名称 有機EL素子およびスパッタ成膜方法
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 スパッタ成膜方法
目的 良好な発光を示し、かつ可視光透過性を有する有機EL素子を提供する。
効果 良好な発光を示し、かつ可視光透過性を有する有機EL素子が得られる。また、本発明のスパッタ成膜方法によれば、基材へのダメージを抑えた成膜が可能となる。
技術概要
有機EL素子10は、可視光透過性を有する陽極層である下部ITO層12と、有機機能層であるNPB層14およびAIQ層16と、可視光透過性を有する陰極層であるLiF層18およびMgAg層20と、陰極層の表面に成膜された上部ITO層22を備えている。上部ITO層22の面方向の膨張率は、厚さ0.1mmでヤング率2GPaの高分子フィルム上に成膜された状態で面方向の膨張率が0.02%以下である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT