ポリシングパッド及びその製造方法

開放特許情報番号
L2015001317
開放特許情報登録日
2015/8/19
最新更新日
2015/8/19

基本情報

出願番号 特願2011-188471
出願日 2011/8/31
出願人 国立大学法人九州工業大学
公開番号 特開2013-049112
公開日 2013/3/14
発明の名称 ポリシングパッド及びその製造方法
技術分野 機械・加工、電気・電子
機能 材料・素材の製造、加熱・冷却、加圧・減圧
適用製品 ポリシングパッド及びその製造方法
目的 ポリシングパッドの表面凹凸の加工に寄与している周波数成分や振幅を反映した構造を選択的に形成させることで、研磨性能の向上を図る。
効果 ポリシングパッドの表面凹凸の加工に寄与している周波数成分や振幅を反映した構造を選択的に形成させることで、研磨性能の向上を図ることができる。
マイクロパターンを有するポリシングパッドにすることにより、接触面積を制御することができ、また、研磨性能の大幅なる改善が期待できる。さらに研磨効率の向上により、コストを低減させるうえで効果的である。
技術概要
ポリシングパッドは、基材層と、該基材層の表面に設けられ、かつ、該基材層の表面側から先端側に傾斜面を有する複数の突起を、ピーク材によって一体に形成する。この複数の突起は、基材層の表面において縦及び横方向にそれぞれ所定間隔を開けて配置する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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