重合性低屈折ポリマーの製造方法、及び光学材料の製造方法

開放特許情報番号
L2015001256
開放特許情報登録日
2015/8/10
最新更新日
2015/8/10

基本情報

出願番号 特願2010-027522
出願日 2010/2/10
出願人 学校法人神奈川大学
公開番号 特開2011-162677
公開日 2011/8/25
登録番号 特許第5584878号
特許権者 学校法人神奈川大学
発明の名称 重合性低屈折ポリマーの製造方法、及び光学材料の製造方法
技術分野 有機材料、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 ポリマー鎖中に空隙構造を有する高分子化合物及びその製造方法
目的 実質的にフッ素原子を分子内に含まず、かつ低い屈折率を示すポリマーを提供する。
効果 実質的にフッ素原子を分子内に含まず、かつ低い屈折率を示すポリマーが提供される。また、本発明によれば、そのようなポリマーが含まれることにより、低い屈折率を示す光学材料を容易に作製することのできる硬化性組成物が提供される。
技術概要
 
ポリマー鎖中に包接構造からなる空隙を有することにより低屈折率を示す重合性ポリマーの製造方法であって、
パラ位が置換されてもよいカリックスアレーン、カリックスレゾルシンアレーン、及びシクロデキストリンからなる群より選択される包接化合物と、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、1,2−エタンジオールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂からなる群より選択される架橋性化合物と、を反応させることにより高分子量化させてポリマーを得る工程、及び
前記ポリマーの分子末端に存在する未反応のグリシジル基と、カルボキシル基を有する不飽和化合物と、を反応させることにより、前記ポリマーの末端に重合性の不飽和基を導入する工程、を備えた重合性低屈折率ポリマーの製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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