含ケイ素ポリマーおよびその製造方法並びに光学材料

開放特許情報番号
L2015001238
開放特許情報登録日
2015/8/10
最新更新日
2015/8/10

基本情報

出願番号 特願2008-121152
出願日 2008/5/7
出願人 学校法人神奈川大学
公開番号 特開2009-269989
公開日 2009/11/19
登録番号 特許第5322491号
特許権者 学校法人神奈川大学
発明の名称 含ケイ素ポリマーおよびその製造方法並びに光学材料
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シルセストオキサン骨格を有する含ケイ素ポリマーおよびその製造方法、並びにこの含ケイ素ポリマーよりなる光学材料
目的 屈折率が低く、優れた耐熱性を有する新規な含ケイ素ポリマーおよびその製造方法、並びにこの含ケイ素ポリマーよりなる光学材料を提供すること。
効果 含ケイ素ポリマーは、屈折率が低く、優れた耐熱性を有するものであり、光学レンズ、光学フィルム、光ファイバー、光導波路などの光学製品に用いられる光学材料として有用である。
技術概要
優れた耐熱性、透明性を有する有機−無機ハイブリッド材料として、シルセスキオキサン誘導体から得られる、分枝骨格を有する含ケイ素ポリマーが提案されている
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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