サーミスタの製造方法

開放特許情報番号

L2015000913

開放特許情報登録日

2015/4/24

最新更新日

2019/7/26

基本情報

出願番号	特願2015-003583
出願日	2015/1/9
出願人	国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号	特開2016-129211
公開日	2016/7/14
登録番号	特許第6529023号
特許権者	国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称	サーミスタの製造方法
技術分野	電気・電子、化学・薬品、無機材料
機能	材料・素材の製造
適用製品	サーミスタの製造方法
目的	柔軟性を備えるとともに、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜が形成されたサーミスタを提供する。
効果	本発明によれば、柔軟性を備えるとともに、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜が形成できる。
技術概要	サーミスタの製造方法は、成膜工程と、第一照射工程と、第二照射工程とを備えている。成膜工程では、粒径が１μｍ未満である酸化物ナノ粒子を含有する分散液を基材に塗布し、サーミスタ前駆体膜を形成する。第一照射工程では、１０ｍＪ／ｃｍ↑2〜４０ｍＪ／ｃｍ↑2のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ前駆体膜に照射してサーミスタ中間体膜を得る。第二照射工程では、４５ｍＪ／ｃｍ↑2〜７０ｍＪ／ｃｍ↑2のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ中間体膜に照射してサーミスタ膜を得る。この方法によって、柔軟性を備え、耐熱温度が２００℃以下である基材にサーミスタ膜が形成できる。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人産業技術総合研究所

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】