サーミスタの製造方法

開放特許情報番号
L2015000913
開放特許情報登録日
2015/4/24
最新更新日
2016/9/28

基本情報

出願番号 特願2015-003583
出願日 2015/1/9
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2016-129211
公開日 2016/7/14
発明の名称 サーミスタの製造方法
技術分野 電気・電子、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 サーミスタの製造方法
目的 柔軟性を備えるとともに、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜が形成されたサーミスタを提供する。
効果 本発明によれば、柔軟性を備えるとともに、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜が形成できる。
技術概要
サーミスタの製造方法は、成膜工程と、第一照射工程と、第二照射工程とを備えている。成膜工程では、粒径が1μm未満である酸化物ナノ粒子を含有する分散液を基材に塗布し、サーミスタ前駆体膜を形成する。第一照射工程では、10mJ/cm↑2〜40mJ/cm↑2のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ前駆体膜に照射してサーミスタ中間体膜を得る。第二照射工程では、45mJ/cm↑2〜70mJ/cm↑2のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ中間体膜に照射してサーミスタ膜を得る。この方法によって、柔軟性を備え、耐熱温度が200℃以下である基材にサーミスタ膜が形成できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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