フッ素ガス測定方法及び装置

開放特許情報番号
L2015000826
開放特許情報登録日
2015/4/14
最新更新日
2015/4/14

基本情報

出願番号 特願2007-225834
出願日 2007/8/31
出願人 大陽日酸株式会社
公開番号 特開2009-058372
公開日 2009/3/19
登録番号 特許第5096081号
特許権者 大陽日酸株式会社
発明の名称 フッ素ガス測定方法及び装置
技術分野 無機材料、化学・薬品
機能 検査・検出
適用製品 フッ素ガス濃度計
目的 発光式フッ素ガス濃度計を使用して、フッ素ガスを全く含まない窒素ガスから、フッ素ガスを200ppm含む窒素ガスに切り換えて発光強度を連続的に測定した場合、切り換えた直後に瞬時に跳ね上がり、その後緩やかに減少した。また、頻繁に校正を行う必要があり、また、多点校正を実施する必要があった。本発明は、フッ素ガス濃度計の応答性や安定性を向上させるとともに、フッ素ガス濃度の変化にも迅速且つ正確に対応することができ、標準フッ素ガスを用いることなく測定部の前処理を簡単且つ確実にできる測定方法及び装置を提供する。
効果 フッ化キセノンを含むガスにより、配管内面に予めフッ化層を形成でき、また、同ガスによって検量線の作成が容易にできるので、標準フッ素ガスを用いることなく、試料ガス中のフッ素ガス濃度を正確に測定できる。また、フッ化キセノンの量は、除害装置出口ガス等の微量フッ素ガスを計測する場合、1g程度で良く、フッ化キセノン供給部はガスライン前後の2つの切換手段を含めても、その大きさを100mm×100mm×100mm程度にでき、分析システム全体を、例えば、600mm×400mm×400mm程度にできる。
技術概要
 
発光式フッ素ガス濃度計を用いて試料ガス中のフッ素ガス濃度を測定するフッ素ガス測定方法において、発光式フッ素ガス濃度計の試料ガスと接する部分にフッ化キセノンを用いてフッ化層を形成した後、あるいは、前記発光式フッ素ガス濃度計をフッ化キセノンを用いて校正した後、試料ガス中のフッ素ガス濃度を測定する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 大陽日酸株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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