水溶性ガス中の不純物のサンプリング方法

開放特許情報番号
L2015000823
開放特許情報登録日
2015/4/14
最新更新日
2015/4/14

基本情報

出願番号 特願2006-046113
出願日 2006/2/23
出願人 大陽日酸株式会社
公開番号 特開2007-225404
公開日 2007/9/6
登録番号 特許第4901239号
特許権者 大陽日酸株式会社
発明の名称 水溶性ガス中の不純物のサンプリング方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造、検査・検出
適用製品 微量ガス濃度計
目的 通常、アンモニア中の不純物をサンプリングする場合に、加水分解法を用いている。しかし、加水分解法では、飽和濃度に達するガス量以下でしかサンプリングできず、超低濃度の不純物を分析するにはサンプリング量が不足していた。また、サンプル液の希釈によって目的不純物成分も希釈され、十分な感度が得られなかった。これらの対策として、サンプル液を非沸騰蒸発させて濃縮する方法があるが、長時間を要する。本発明は、簡単な機器構成及び操作で、水溶性ガス中の不純物を効率よくサンプリングできる方法を提供する。
効果 水溶性ガスの加水分解段階で不純物を捕集液中に捕捉する加水分解(ハイドロリシス)法を行った後、さらに、過飽和状態で水溶性ガスを流通させて不純物を捕集液中に溶解させて捕捉する溶解(ソルベーション)法を行うので、水溶性ガスの流通量を任意に設定することができ、捕集液中の不純物濃度を高めることができる。
技術概要
 
@水溶性ガスを捕集液中に流通させて水溶性ガスを加水分解させることにより、微量不純物を捕集液中に捕捉する加水分解段階と、A溶性ガスが飽和状態となった捕集液中に継続して水溶性ガスを流通させ、水溶性ガスの過飽和状態で前記微量不純物を捕集液中に溶解させて捕捉する溶解段階を行う。さらに、B前記捕集液の温度を調節して前記水溶性ガスの飽和濃度を調節する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 大陽日酸株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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