| 出願番号 |
特願2014-167309 |
| 出願日 |
2014/8/20 |
| 出願人 |
国立大学法人信州大学 |
| 公開番号 |
特開2016-045000 |
| 公開日 |
2016/4/4 |
| 登録番号 |
特許第6602001号 |
| 特許権者 |
国立大学法人信州大学 |
| 発明の名称 |
Ｘ線強度変調法及びＸ線偏光状態分析法 |
| 技術分野 |
情報・通信 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
Ｘ線の強度を変調する技術とＸ線の偏光状態を分析する技術 |
| 目的 |
自由度の高い強度パターンの作り込みや切り替えが可能なＸ線の強度変調機構と、その強度変調機構を利用したＸ線偏光分析技術を提供する。 |
| 効果 |
自由度の高い強度パターンが作り込まれたＸ線ビームの生成を可能にし、またその強度パターンの迅速、任意な作り替え、変調を可能にする。
メカニカルな動作に起因する装置、部品の摩耗、劣化、誤動作等を低減する。一般に、直線偏光、円偏光ともに感度を有するため、これら双方の見積もりを、統一された装置、手法によって可能にする。 |
技術概要
 |
Ｘ線強度変調方法であって、被変調Ｘ線を所望の磁化状態を有する磁性体に照射する入射工程と、前記磁性体の磁化の方向、磁化の大きさ、磁区構造から選択される1以上の状態を操作する操作工程と、前記磁性体によって回折された被変調Ｘ線を出力する出力工程と、を含むことを特徴とするＸ線強度変調方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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