銅三次元ナノ構造体の製造方法

開放特許情報番号
L2015000633
開放特許情報登録日
2015/3/31
最新更新日
2016/6/24

基本情報

出願番号 特願2014-182989
出願日 2014/9/9
出願人 国立大学法人信州大学
公開番号 特開2016-056401
公開日 2016/4/21
発明の名称 銅三次元ナノ構造体の製造方法
技術分野 金属材料、輸送、電気・電子
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 電解めっき法によって銅三次元ナノ構造体を製造する方法
目的 きわめて大きな比表面積の粗面構造を有する金属膜及びその好適な製造方法を提供する。
効果 本発明に係る銅三次元ナノ構造体の製造方法によれば、銅からなる板状体の配置の疎密度を容易に制御することができ、種々用途に応じた比表面積等の特性を備える銅三次元ナノ構造体を提供することができる。
技術概要
電解めっきにより、銅からなる板状の電析物がランダムな向きに交錯して形成された銅三次元ナノ構造体を製造する方法であって、
めっき時の電流密度の大小を調節することにより、前記板状の電析物の疎密度を制御することを特徴とする銅三次元ナノ構造体の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 譲渡についての可・不可はその時の状況によります。

登録者情報

登録者名称 株式会社信州TLO

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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