プラズマ成膜装置のクリーニング方法

開放特許情報番号
L2015000574
開放特許情報登録日
2015/3/25
最新更新日
2015/3/25

基本情報

出願番号 特願2008-111377
出願日 2008/4/22
出願人 大陽日酸株式会社
公開番号 特開2009-266884
公開日 2009/11/12
登録番号 特許第5214316号
特許権者 大陽日酸株式会社
発明の名称 プラズマ成膜装置のクリーニング方法
技術分野 電気・電子、無機材料、化学・薬品
機能 表面処理、洗浄・除去
適用製品 プラズマCVD成膜装置
目的 プラズマCVD成膜装置のチャンバーおよび排気管路内に堆積した堆積物を除去する場合において、ハイドロフルオロカーボンガスと酸素との混合ガスをクリーニング用ガスとして使用してプラズマ処理によりクリーニングする際に、アーキングの発生を抑えてチャンバー内の各種パーツを損傷せず、成膜異常などが生じない技術を提供する。
効果 プラズマ処理時において、放電電圧が従来のクリーニング用ガスを使用した場合とほぼ同じになって、むやみに高くなることがなく、しかもセルフバイアス電圧も大きな負の値になることがなくなる。このため、アーキングといわれるプラズマの局部的異常放電の発生が抑えられ、チャンバー内の各種パーツを損傷せず、成膜異常などが生じなくなる。また、地球温暖化物質の排出量も少なくなる。
技術概要
 
クリーニング用ガスとして、ハイドロフルオロカーボンガスと酸素と解離性ガスを含み、解離性ガスの割合がハイドロフルオロカーボンガスと酸素の合計量の5〜10vol%である混合ガスを用いて、プラズマ処理する。ハイドロフルオロカーボンガスとしては、ペンタフルオロエタンガスが好ましく、解離性ガスには、CF4、C2F6、C3F8、c-C4F8、NF3、N2Oのいずれか1種以上が好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 大陽日酸株式会社

その他の情報

その他の提供特許
登録番号1 4220318
関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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