フレキシブル導電性膜及びその製造方法

開放特許情報番号

L2015000561

開放特許情報登録日

2015/3/23

最新更新日

2021/10/28

基本情報

出願番号	特願2016-566577
出願日	2015/12/25
出願人	国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号	WO2016/104796
公開日	2016/6/30
登録番号	特許第6934654号
特許権者	国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称	フレキシブル導電性膜及びその製造方法
技術分野	電気・電子、機械・加工
機能	材料・素材の製造
適用製品	フレキシブル導電性膜及びその製造方法
目的	ベンディング試験などの曲げによって電気抵抗が大きく変化しない点でフレキシブルと言える導電性膜を提供する。 厚さが500nm以下で、室温でのシート抵抗が300Ω／□以下となる導電性膜を提供する。 室温での電気抵抗に対する300℃までの温度での電気抵抗変化〔（25〜300℃の所定温度でのシート抵抗−25℃でのシート抵抗）／25℃でのシート抵抗〕が5％以下である導電性膜を提供する。 上記のようなフレキシブル導電性膜の製造方法を提供する。
効果	本発明のフレキシブル導電性膜は、可撓性の基材上に形成され、曲げを繰り返しても抵抗値があまり変化しないという点で「フレキシブル」と言えるものである。 本発明のフレキシブル導電性膜は、膜厚が500nm以下で、室温のシート抵抗を1KΩ/□以下や300Ω/□以下とすることができるし、また、金属酸化物材料を主成分とするため、高温環境下においても腐食や酸化による抵抗変化を防ぐことができるので、室温から300℃までの温度の抵抗変化を5％以下とすることもできる。
技術概要	基材上に金属有機化合物、金属、金属酸化物の少なくともいずれか一つを含む溶液又は分散液を基材に塗布し、該塗布膜を、基材が劣化しない温度での加熱工程と、紫外線、マイクロ波、又は、プラズマを照射する照射工程の少なくとも一方の工程によって処理してフレキシブル導電性膜に形成することを特徴とする。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人産業技術総合研究所

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】