酸化バナジウム膜およびその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2015000082
- 開放特許情報登録日
- 2015/1/21
- 最新更新日
- 2019/1/30
基本情報
出願番号 | 特願2016-556559 |
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出願日 | 2015/10/26 |
出願人 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | |
公開日 | 2016/5/6 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
発明の名称 | 酸化バナジウム膜およびその製造方法 |
技術分野 | 化学・薬品、無機材料、機械・加工 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | 酸化バナジウム膜とその製造方法 |
目的 | 室温以上で温度昇降による抵抗率変化のヒステリシスをほとんど示さず、室温での抵抗率が低く、抵抗温度係数の絶対値が大きい酸化バナジウムを提供することで、赤外センサや調光ガラスなどへの応用展開を図る。 |
効果 | 小型赤外センサ用のボロメータ膜や、温度に応じて赤外線の透過率を自動的に調整できる薄膜が、低コストで簡便に得られる。 |
技術概要 |
バナジウムの一部が、ニッケル、鉄、およびアルミニウムから選択される1以上の金属、ならびに銅で置換されている酸化バナジウム膜。
バナジウムの一部が鉄で置換されており、バナジウムの物質量と鉄の物質量の和に対する鉄の物質量が4.0〜10mol%である酸化バナジウム膜。 バナジウム有機化合物と、ニッケル、鉄、およびアルミニウムから選択される1以上の金属有機化合物と、銅有機化合物とを含む混合液を基材に塗布する塗布工程と、 前記基材が分解する温度より低い温度で、前記混合液が塗布された前記基材を焼成する焼成工程、および前記混合液の前記基材への塗布面に紫外線を照射する紫外線照射工程のうち、少なくとも一方の工程と、 を有する酸化バナジウム膜の製造方法。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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