光断層イメージング装置

開放特許情報番号
L2015000074
開放特許情報登録日
2015/1/21
最新更新日
2017/11/16

基本情報

出願番号 特願2016-554025
出願日 2015/9/17
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2016/059939
公開日 2016/4/21
登録番号 特許第6214020号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光断層イメージング法、その装置およびプログラム
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 光波の干渉性を利用して生体組織などの被測定対象の断層像を取得する方法および装置
目的 SD-OCT装置と同様に、1台の分光装置で実現する方法として、測定光と参照光との間に位相差を導入しない場合と、πの位相差を導入する場合の2つのスペクトル干渉縞(広帯域光による干渉信号が分光装置によって波長分解され干渉縞となったもの)の強度を時系列に取得し、その2つの強度に基づき必要な演算を行い、断層情報を取得する方法と装置を提供する。
上述のスペクトル干渉縞強度データの解析手法を拡張して、より簡便な1回の計測によるスペクトル干渉縞強度データの解析により同等の分解能を有する断層情報を取得する方法と装置を提供する。
効果 1台の分光装置で良いため、当該装置全体を低コストで実現できる。
従来の装置構成よりも、光学調整が簡単になり、測定誤差を生み出す要因を削減できる。
既に普及しているSD-OCT装置にわずかに改良変更を加えることで、分散の影響を受けないスペクトル強度干渉断層イメージング装置が実現される。
製品化の際に、既存のOCT装置を高度化するオプションとして位置付けた販売が可能となる。
技術概要
測定光と参照光との干渉光の情報により被測定対象の断層画像を生成するスペクトル強度干渉断層イメージング法であって、
光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)、および測定光と参照光の間に位相差πを発生させる手段を備え、
分光素子と検出器によって分光器が構成され、
光源から射出された光を分波合波器で分波し、
一の分波光が被測定対象に入射して反射した測定光と、他方の分波光が参照ミラーで反射した参照光とを、再び該分波合波器で合波して干渉させた干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
続いて、該測定光と、該参照光とを前記手段によりその光行路で位相差πだけずらし、再び該分波合波器で合波して干渉させた光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、
当該時系列に取得した2のスペクトル干渉縞強度の情報に基づいてフーリエ変換演算処理を行い、その結果得た複素数の虚部の信号位置の2倍の距離に現れた実部の信号位置から、被測定対象の断層画像を生成することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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