金多孔質膜の製造方法

開放特許情報番号
L2014002426
開放特許情報登録日
2014/12/26
最新更新日
2017/6/26

基本情報

出願番号 特願2013-043441
出願日 2013/3/5
出願人 公立大学法人首都大学東京
公開番号 特開2014-173093
公開日 2014/9/22
登録番号 特許第6124443号
特許権者 公立大学法人首都大学東京
発明の名称 金多孔質膜の製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 金多孔質膜の製造方法
目的 均質な多孔質膜をより短期間で製造することのできる金多孔質膜の製造方法を提供する。
効果 本発明の金多孔質膜の製造方法によれば、均質な多孔質膜をより短期間で製造することができる。
技術概要
基板を用い、しゅう酸及びその塩を除くオキソ酸類水溶液中で金のアノード酸化を行う酸化工程と、該酸化工程終了後、金多孔質皮膜の膜厚が200nm未満となる場合は直ちに、金多孔質皮膜の膜厚が200nm以上となる場合は所定時間放置した後に、カソード還元を行う還元工程とを行うことを特徴とする金多孔質膜の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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