出願番号 |
特願2010-180194 |
出願日 |
2010/8/11 |
出願人 |
独立行政法人物質・材料研究機構 |
公開番号 |
特開2012-036061 |
公開日 |
2012/2/23 |
登録番号 |
特許第5527662号 |
特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
発明の名称 |
ナノカーボン膜の製造方法及びナノカーボン膜 |
技術分野 |
化学・薬品、無機材料、機械・加工 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
ナノカーボン膜の製造方法及びナノカーボン膜 |
目的 |
濾過速度が速くかつ耐久性が高く、限外濾過膜、ナノ濾過膜または逆浸透膜に利用可能な膜であって、極薄であるが、力学的強度が高いナノカーボン膜の製造方法及びナノカーボン膜を提供する。 |
効果 |
本発明のナノカーボン膜の製造方法及びナノカーボン膜は、濾過速度が速くかつ耐久性が高く、限外濾過膜、ナノ濾過膜または逆浸透膜に利用可能な膜であって、濾過膜の製造産業、濾過膜を用いる分析産業等の産業において利用可能性がある。
本発明のナノカーボン膜は、自立膜であることから、浸透圧発電用の高透過性RO膜としても利用可能性がある。
機能性有機材料の回収や化学プロセスにおける固液分離などの産業用の用途には大きな利用可能性がある。 |
技術概要
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濾過法により、精密濾過膜上にナノファイバーからなる犠牲膜を形成する工程と、高周波プラズマ法により、前記ナノファイバーの隙間にカーボンが充填したカーボン充填層を形成してから、前記犠牲膜を覆うように平坦な面を有するカーボン平坦膜を製膜する工程と、酸又はアルカリ溶液により、前記カーボン充填層の前記ナノファイバーを除去して網目状の空洞部を有するカーボン裏打ち層を形成することで、前記カーボン平坦膜と前記裏打ち層とからなり、膜厚が100nm以下のナノカーボン膜を形成する工程と、を有することを特徴とするナノカーボン膜の製造方法。 |
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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