走査照射装置のステージ位置合わせ方法

開放特許情報番号
L2014002109
開放特許情報登録日
2014/10/30
最新更新日
2015/10/12

基本情報

出願番号 特願2012-153162
出願日 2007/10/19
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2012-215584
公開日 2012/11/8
登録番号 特許第5429908号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 走査照射装置のステージ位置合わせ方法
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 走査照射装置のステージ位置合わせ方法
目的 粒子線又はエネルギー線等の照射精度が向上し、位置あわせも容易になる走査照射装置のステージ位置合わせ方法を提供する。
効果 本走査精度検定方法により、粒子線やエネルギー線を走査・照射する装置の走査精度検定を容易に行うことができ、今まで見過ごしてきたほどの微小な誤差も検出することができる。
本発明の位置あわせ方法は、ビームを走査する装置内でのステージの位置合わせなどにも用いることができる。モアレ縞が一致すれば平行直線群がぴたりと合っていることを示し、容易に位置あわせを行うことができる。粒子線又はエネルギー線等の照射精度が向上し、位置あわせも容易になるため、電子部品製造分野や精密加工分野において歩留まりを向上などに多大な貢献をする。
技術概要
ターゲットをステージに置くと共に、粒子線又はエネルギー線を走査状に当該ターゲットに照射する走査照射装置のステージ位置合わせ方法であって、前記ステージの端に平行線を描き、前記位置合わせするもう片方にも同じ幅の平行線を描いておき、前記粒子線やエネルギー線を平行線状に照射してモアレ縞を出し、前記モアレ縞が一致することで前記位置あわせを行うことを特徴とする走査照射装置のステージ位置合わせ方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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