磁気光学材料、磁気光学素子、および磁気光学材料の製造方法

開放特許情報番号
L2014002053
開放特許情報登録日
2014/10/23
最新更新日
2015/8/19

基本情報

出願番号 特願2011-128998
出願日 2011/6/9
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2012-255916
公開日 2012/12/27
登録番号 特許第5769238号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 磁気光学材料、磁気光学素子、および磁気光学材料の製造方法
技術分野 情報・通信、電気・電子、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 磁気光学材料、磁気光学素子、並びにその製造方法
目的 超高密度記録、センシング、生物医学、画像化技術などの広い分野に応用して好適な、貴金属に起因する表面プラズモンを用いた高い磁気光学性能を有する磁気光学材料を提供する。
効果 磁性体および貴金属ナノ粒子の組成、形状を精密に制御し、精密集積することで、従来の材料、技術で到達しえない、数桁倍に及ぶ磁気光学効果の増強を実現できる。
本発明で提供する磁気光学材料の応用は、光磁気記録素子、光磁界センサ、光スイッチ、光アイソレータ、バイオセンサなどがあげられる。
さらに、従来の薄膜プロセスの主流である、大型の真空装置や高価な成膜装置を必要としない、低コスト、低環境負荷プロセスを実現することができ、磁気光学材料が基幹となっている超高密度記録、センシング、生物医学、画像化技術などに使用できる。
技術概要
膜厚が50nm以下の磁性体薄膜をAu,Ag,CuおよびAlからなる群から選択された一つの種類の金属または前記群から選択された複数の金属の合金(以下、貴金属等と称する)の表面上に配置した、磁気光学材料。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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