多孔性硫化銅、その製造方法およびその用途

開放特許情報番号
L2014002035
開放特許情報登録日
2014/10/23
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2011-126344
出願日 2011/6/6
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2012-250890
公開日 2012/12/20
登録番号 特許第5669265号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 多孔性硫化銅、その製造方法およびその用途
技術分野 化学・薬品、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 多孔性硫化銅、その製造方法およびその用途
目的 多孔性硫化銅、その製造方法およびその用途を提供する。
効果 本発明による多孔性硫化銅は、酸化還元反応に基づく優れた比容量を示す。このような多孔性硫化銅は、シュードキャパシタ用の電極材料に適用できる。
本発明による多孔性硫化銅の製造方法は、極めてシンプルなプロセスであり、特殊な装置を必要としない。したがって、本発明による多孔性硫化銅を歩留まりよく、安価に提供できる。
技術概要
硫化銅からなり、
SBA−15多孔性シリカをテンプレートとして用いて得られるレプリカであり、
空間群P63/mmcを有する、多孔性硫化銅。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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