ヒドロシラン化合物の製造方法
- 開放特許情報番号
- L2014002016
- 開放特許情報登録日
- 2014/10/21
- 最新更新日
- 2018/7/19
基本情報
| 出願番号 | 特願2014-143066 |
|---|---|
| 出願日 | 2014/7/11 |
| 出願人 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2016/2/1 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 | ヒドロシラン化合物の製造方法 |
| 技術分野 | 有機材料、機械・加工 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | ヒドロシラン化合物の製造方法 |
| 目的 | ヒドロシラン化合物の新たな製造方法を提供する。 |
| 効果 | 本発明によれば、効率良くヒドロシラン化合物を製造することができる。
本発明の製造方法によって得られたヒドロシラン化合物は、シリコーン樹脂の原料や反応剤等に用いることができる。 |
| 技術概要 |
式（Ｌ１）で表されるジアルキルベンゾイミダゾール−２−イリデン配位子及び式（Ｌ２）で表されるホスフィン配位子を有するイリジウム錯体と塩基を水素ガスと共存させることにより、原料化合物であるシラン化合物に対して、ヒドリドイオン（Ｈ−）の求核置換反応（ヒドリド還元）が進行して、効率良くヒドロシラン化合物を製造することができる。
（式（Ｌ１）及び（Ｌ２）中、Ｒ↑４はそれぞれ独立して炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｒ↑５はそれぞれ独立して炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｒ↑６はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を、ｎは０〜４の整数を表す。） |
| イメージ図 | |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
)
登録者情報
| 登録者名称 | |
|---|---|
その他の情報
| 関連特許 |
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