アパタイト型Ge−La酸化物の合成方法

開放特許情報番号
L2014001982
開放特許情報登録日
2014/10/16
最新更新日
2016/5/24

基本情報

出願番号 特願2012-007659
出願日 2012/1/18
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2013-147365
公開日 2013/8/1
登録番号 特許第5900882号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 アパタイト型Ge−La酸化物の合成方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 アパタイト型Ge−La酸化物の合成方法
目的 濾過工程を必要とせず、高濃度のGe−La水溶液を利用でき、低温合成可能なアパタイト型Ge−La酸化物の合成方法を提供する。
効果 本発明は、濾過工程を必要とせず、高濃度のGe−La水溶液を利用でき、低温合成可能なアパタイト型Ge−La酸化物の合成方法であり、得られたアパタイト型ランタン・ゲルマニウム酸化物は酸化物イオン伝導体として用いることができ、固体酸化物燃料電池、酸素濃度検出センサー等に応用でき、電池産業、センサー産業等において利用可能性がある。
技術概要
有機酸及びアンモニアを含む水溶液中に、有機酸に含まれているカルボキシル基のモル量に対してGe(+4価)とLa(+3価)からなる金属の総価数モル量が0.8倍となるように溶解し、水溶液のpHが1.2以上1.6以下となるように調整して、Ge及びLaを均一に分散させた混合水溶液を調製する混合水溶液調製工程S1と、前記混合水溶液を130℃以下の温度で加熱してゲルを形成し、前記ゲルをアモルファス前駆体からの結晶成長開始温度以下の温度で加熱してアモルファス前駆体を形成した後、前記アモルファス前駆体を前記結晶成長開始温度以上1100℃以下の温度で加熱する混合水溶液加熱工程S2と、を有するアパタイト型Ge−La酸化物の合成方法を用いることによって課題を解決できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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