| 出願番号 |
特願2012-248866 |
| 出願日 |
2012/11/12 |
| 出願人 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2013-136832 |
| 公開日 |
2013/7/11 |
| 登録番号 |
特許第6008320号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 |
コンビナトリアル成膜装置 |
| 技術分野 |
金属材料、電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
スパッタガン及びこれを用いた成膜装置 |
| 目的 |
雰囲気ガス圧力を低くしたまま、良好なプラズマを安定生成し、スパッタ領域へ均一のガス供給流を実現し、良質のスパッタ成膜が得られるスパッタガンを提供する。 |
| 効果 |
噴射ノズルにより蒸着試料のスパッタされる領域近傍にスパッタガスを局所導入できるので、雰囲気ガス圧力を低くしたまま、良好なプラズマを安定生成し、スパッタ領域へ均一のガス供給流を実現し、高品質のスパッタ成膜が得られる。
また、コンビナトリアル成膜装置に本願発明のスパッタガンを使用すると、成膜品質が高まり、薄膜を組成する最適な材料探索が再現性良く、安定して行える。 |
技術概要
 |
蒸着試料が格納されるターゲットホルダー３５と、ターゲットホルダー３５の外周面を覆う状態に設けられたカバーキャップ３６と、このカバーキャップの被蒸着基板側に位置して所定間隔で設けられた噴射ノズル５０と、噴射ノズル５０にスパッタガスを供給するガス配管部（４０、４４）と、噴射ノズル５０より導入したスパッタガスをプラズマ化するためのプラズマ化電気回路（３２）を有する。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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