蒸着用シャッター装置及びこれを用いた成膜装置

開放特許情報番号
L2014001962
開放特許情報登録日
2014/10/16
最新更新日
2016/11/25

基本情報

出願番号 特願2012-253996
出願日 2012/11/20
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2013-136834
公開日 2013/7/11
登録番号 特許第6008321号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 蒸着用シャッター装置及びこれを用いた成膜装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 蒸着用シャッター装置
目的 真空環境下で、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽―射出を制御し、所望の薄膜、多層膜や多元複合材料膜等の創製が可能な蒸着用シャッター装置を提供すること。
効果 蒸発源のオリフィスに付けて、例えば1/1000秒〜1/100秒程度の超高速でシャッター開閉を実行することができ、射出量の制御された分子等の物質を複数種類について時間を区分して堆積させることが可能となる。
従来装置と比較して短時間で実用的な、膜厚のデバイスを創製することが可能となる。
技術概要
真空中で蒸発源20より発生する粒子流を制御する蒸着用シャッター装置30であって、蒸発源20を覆う状態に装着されると共に、中央部に開口部を有する筐体部32と、筐体部32の中央部に設けられたシャッター部材40であって、少なくとも2枚以上の羽根部により前記開口部を全閉した状態と全開した状態の少なくとも一方の姿勢を有するシャッター部材40と、シャッター部材40の開閉状態と連動する開閉状態操作部44と、開閉状態操作部44の開閉状態を操作する開閉状態駆動部50とを備えるものである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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