紫外線吸収剤組成物およびそれを用いて加工された耐光性材料

開放特許情報番号
L2014001913
開放特許情報登録日
2014/10/13
最新更新日
2014/10/13

基本情報

出願番号 特願2008-032216
出願日 2008/2/13
出願人 日華化学株式会社
公開番号 特開2009-191136
公開日 2009/8/27
登録番号 特許第5305680号
特許権者 日華化学株式会社
発明の名称 紫外線吸収剤組成物およびそれを用いて加工された耐光性材料
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 紫外線吸収剤組成物およびそれを用いて加工された耐光性材料
目的 アルカリや金属イオンの存在下でも黄変することなく、紫外線を遮断するのに必要な量の紫外線吸収剤を透明ポリマーや白色の基材に対しても使用することが可能な紫外線吸収剤組成物を提供する。
効果 本発明の紫外線吸収剤組成物は、紫外線を遮断するのに十分な高い濃度で使用した場合であっても、アルカリや金属イオンによる紫外線吸収剤の黄変を抑制することができるため、従来の紫外線吸収剤組成物では適用が困難であった透明なポリマーや無色の基材に対しても良好な耐光性、紫外線遮断性を与えることができる。
技術概要
 
フェノール性水酸基を有する紫外線吸収剤(A)と、有機酸アニオン(B)と、および有機酸アニオン(B)との塩を形成する第4級アンモニウム基を構成成分として含むカチオン系ポリマー(C)からなり、紫外線吸収剤(A)とカチオン系ポリマー(C)との配合比が紫外線吸収剤(A)のフェノール性水酸基1当量に対するカチオン系ポリマー(C)の第4級アンモニウム基が10〜0.1当量となるものである、紫外線吸収剤組成物。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 日華化学株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT