撮像素子の製造方法、及び、撮像素子

開放特許情報番号

L2014001718

開放特許情報登録日

2014/9/19

最新更新日

2024/5/2

基本情報

出願番号	特願2011-020120
出願日	2011/2/1
出願人	日本放送協会
公開番号	特開2012-160619
公開日	2012/8/23
登録番号	特許第5572108号
特許権者	日本放送協会
発明の名称	撮像素子の製造方法、及び、撮像素子
技術分野	電気・電子、情報・通信
機能	機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品	撮像素子の製造方法、及び、撮像素子
目的	単板式の積層型の撮像素子に含まれる有機光電変換膜の劣化を抑制することにより、量子効率の改善を図った撮像素子の製造方法、及び、撮像素子を提供する。
効果	単板式の積層型の撮像素子に含まれる有機光電変換膜の劣化を抑制した撮像素子の製造方法、及び、撮像素子を提供できる。
技術概要	基板の上に第１波長の光に感度を有する第１有機光電変換膜を含む第１受光部を形成する工程と、 前記第１受光部の上に紫外線を吸収する第１紫外線吸収部を形成する工程と、 前記第１紫外線吸収部の上に第２波長の光に感度を有する第２有機光電変換膜を含む第２受光部を形成する工程と、 前記第２受光部の上に紫外線を吸収する第２紫外線吸収部を形成する工程と、 前記第２紫外線吸収部の上に第３波長の光に感度を有する第３有機光電変換膜を含む第３受光部を形成する工程と を含む、撮像素子の製造方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	一般財団法人　ＮＨＫ財団

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】