太陽電池およびその製造方法

開放特許情報番号
L2014001569
開放特許情報登録日
2014/9/1
最新更新日
2014/9/1

基本情報

出願番号 特願2000-114399
出願日 2000/3/10
出願人 本田技研工業株式会社
公開番号 特開2001-257374
公開日 2001/9/21
登録番号 特許第4257443号
特許権者 本田技研工業株式会社
発明の名称 太陽電池およびその製造方法
技術分野 電気・電子、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 フレキシブル基板を用いた太陽電池
目的 基板上に充分な高温下での成膜処理を行わせることによって良質なカルコパイライト構造による結晶のCIS系の光吸収層を成膜させて、光電変換効率に優れた軽量でフレキシブルな太陽電池を製造できるようにする。
効果 良質なカルコパイライト構造による結晶のCIS系の光吸収層を成膜することができ、光電変換効率に優れた軽量でフレキシブルな太陽電池を容易に得ることができる。
技術概要
フィルム状に加工されたポリカルボジイミドを焼成することにより得られるカーボンフィルム基板と、そのカーボンフィルム上に成膜されたSiNもしくはSiO2からなる電気絶縁層と、その電気絶縁層上に形成された下部電極層と、その下部電極層上に500℃以上の温度で形成されたP型のCIS系の光吸収層と、その光吸収層上に形成されたn型半導体層と、そのn型半導体層上に形成された上部透明電極層と、n型半導体層と上部透明電極層との間に高抵抗層を設けたことを特徴とする太陽電池。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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