高分子材料の製造方法、並びにその方法に用いる装置

開放特許情報番号
L2014001416
開放特許情報登録日
2014/8/15
最新更新日
2014/8/15

基本情報

出願番号 特願2001-006660
出願日 2001/1/15
出願人 関西ティー・エル・オー株式会社
公開番号 特開2002-212437
公開日 2002/7/31
登録番号 特許第3742821号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 高分子材料の製造方法、並びにその方法に用いる装置
技術分野 有機材料、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 新規な組織構造を有する高分子材料の製造方法、並びにその方法に用いる製造装置
目的 規則的な微細組織を有する高分子材料を提供する。
効果 高分子材料を従来知られていなかった均一な組織構造に制御することができる。また、非晶、液晶、結晶の所望の均質な組み合わせを得ることができる。従って、強靱な構造材料の他、従来品に比類無き性質を有する吸着剤、フィルター、回折格子などが期待できる。
技術概要
1つの化学種からなる高分子融体を、下記のスピノーダル臨界温度Tsより低くガラス転移温度Tgより高い温度にまで瞬時に冷却し、その温度で少なくともスピノーダルパターンが生じる時間が経過するまで保持した後、更に急冷して固化させることにより、高分子材料を製造する方法において、
スピノーダルパターンが生じる温度をTxとするとき、各温度Txで出現するスピノーダルパターンを2次元フーリエ変換したときのピーク位置に基づいて、予めTxとTsとスピノーダルパターンの特性波長Λとの関係を求めておき、その関係に基づいて特性波長に応じて製造時の保持温度Txを定めることを特徴とする高分子材料の製造方法。
Ts:それより高い温度ではスピノーダルパターンが生じない限界の温度。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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