均一膜厚かつ矩形断面を有するパターン膜形成方法、形成装置

開放特許情報番号

L2014001315

開放特許情報登録日

2014/7/29

最新更新日

2020/3/18

基本情報

出願番号	特願2016-510084
出願日	2015/1/23
出願人	国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号	WO2015/146260
公開日	2015/10/1
登録番号	特許第6655844号
特許権者	国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称	均一膜厚かつ矩形断面を有するパターン膜形成方法、形成装置
技術分野	機械・加工、電気・電子
機能	機械・部品の製造
適用製品	印刷によるパターン膜の作製方法
目的	反転転写印刷と同等の矩形断面形状が得られること、反転転写印刷法よりも高いインク使用効率が得られること、パターン不要部分への意図しないインク転写が避けられること、および、パターンサイズによらずほぼ一定の膜厚を有するパターン膜形成ができること、を同時に達成することが可能な、パターン膜形成技術を提供する。
効果	不要な部分へのインク膜の転写が回避できるため歩留まりが高くできる。ブランケットからのインキングを複数回できることからインクの使用効率が高く、インク膜形成コストやインク膜具有デバイスの製造コストを削減することができる。ブランケットよりも硬い凸版によって印刷を行うため、パターンの変形を抑えることができる。 半乾燥状態となり、流動性が抑えられたインク膜が凸版の凸部にインキングされて印刷されるので、印刷されるインク膜に含まれる溶媒による下層への悪影響を極力抑えることができる。
技術概要	（ア）溶媒吸収性シリコーンゴムからなり、平滑な表面を有するブランケットにインクを塗布してインク膜を形成する工程、 （イ）ブランケットの平滑な表面に形成されたインク膜に凸版を押し当てることで凸版の凸部にインク膜を転写させる工程、 （ウ）凸版の凸部表面に転写したインク膜を被転写物に押し当てることでインク膜を被転写物表面に転写する工程、 を含むパターン膜形成方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人産業技術総合研究所

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】