細胞排除性を発現する溝構造

開放特許情報番号
L2014001311
開放特許情報登録日
2014/7/29
最新更新日
2015/11/26

基本情報

出願番号 特願2014-056250
出願日 2014/3/19
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2015-177755
公開日 2015/10/8
発明の名称 細胞排除性を発現する溝構造
技術分野 食品・バイオ
機能 材料・素材の製造、安全・福祉対策
適用製品 細胞排除性を発現する溝構造
目的 安定で堅牢な細胞排除性を発現する表面を細胞親和表面の周囲に隣接して配することによって、基礎及び臨床医学、インプラント、再生医療分野において必要性が高い長期間安定な高感度細胞チップや、安全性の高い細胞シートなどの作製を可能とすること。
効果 本発明の培養基板は、生体細胞ネットワーク形成, 組織形成等が可能である。また、本発明の培養基板は、化学物質を用いた場合のように化学物質の作用が細胞に及ぶことがないため、細胞チップとして用いた場合、被検試料の正確なチップ解析が可能となり、インプラント、再生医療用材料として用いた場合にも、化学物質のコンタミネーションが無く、より安全な治療を可能とするなどのメリットがある。
技術概要
細胞の接着、増殖、伸展・移動を長期間、安定に阻害する、単一あるいは複数列のV字溝構造からなる幾何構造を表面に有する基板を提供する。該幾何構造によって細胞排除性を発現する領域を、細胞親和領域の周囲に隣接して配することによって、基板上に形成した細胞パターンを目的、用途等に柔軟に対応させ、基礎及び臨床医学、インプラント、再生医療分野において細胞チップや細胞シートなどの作製を可能とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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