微粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2014000986
開放特許情報登録日
2014/5/28
最新更新日
2015/11/23

基本情報

出願番号 特願2011-017820
出願日 2011/1/31
出願人 国立大学法人 千葉大学
公開番号 特開2012-158785
公開日 2012/8/23
登録番号 特許第5807893号
特許権者 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 微粒子の製造方法
技術分野 機械・加工、金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 貴金属微粒子、Si微粒子又はCd微粒子の製造方法
目的 イオン液体代替の、より環境負荷が小さく安定的に金属微粒子を製造する方法を提供する。
効果 本発明により、イオン液体代替の、より環境負荷が小さく安定的に金属微粒子を製造する方法を提供することができ、ナノレベルの微粒子の製造方法として産業上利用可能性がある。
技術概要
液体高分子ポリエチレングリコールに貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかをスパッタリングする微粒子の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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