ポリアミック酸溶液、ポリイミド及び光学装置

開放特許情報番号
L2014000912
開放特許情報登録日
2014/5/21
最新更新日
2014/5/21

基本情報

出願番号 特願2009-081819
出願日 2009/3/30
出願人 デクセリアルズ株式会社
公開番号 特開2010-235641
公開日 2010/10/21
登録番号 特許第5321193号
特許権者 デクセリアルズ株式会社
発明の名称 ポリアミック酸溶液、ポリイミド及び光学装置
技術分野 有機材料、情報・通信
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 ポリアミック酸溶液、そのポリアミック酸溶液から形成されたポリイミド、並びに、ポリイミド膜が基材に積層された光学装置
目的 透光性、透過性が高く、また、無機微粒子を使用しなくても比較的高い屈折率を示し、接着性並びに耐熱性にも優れている光学用芳香族ポリイミドを提供できるポリイミド前駆体であるポリアミック酸溶液を提供する。
また、光透過率を示す芳香族ポリイミド、更に、光透過率を示す芳香族ポリイミド膜とを有する光学装置を提供する。
効果 本発明のポリアミック酸溶液からは、透光性、特に400nm付近の波長の光の透過性が高く、また、無機微粒子を使用しなくても比較的高い屈折率を示し、接着性並びに耐熱性にも優れている光学用芳香族ポリイミドを提供できる。
このような特性を持つポリイミドは、固体撮像素子用の半導体基板などの光学装置用基材に積層され、導波路層、接着層、絶縁層または反射防止膜として好ましく機能することができる。
技術概要
 
ポリアミック酸溶液は、特定の9,9−ジフェニルフルオレン残基と、特定のジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基とを有するポリアミック酸を有機溶剤に溶解させたものである。このポリアミック酸は、9,9−ジフェニルフルオレン残基を40質量%以上含有し、5〜100の平均重合度を有する。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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