ステージ式のプラズマエッチング装置

開放特許情報番号

L2014000892

開放特許情報登録日

2014/5/19

最新更新日

2018/4/23

基本情報

出願番号	特願2014-035553
出願日	2014/2/26
出願人	国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号	特開2014-212303
公開日	2014/11/13
登録番号	特許第6288702号
特許権者	国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称	ステージ式のプラズマエッチング装置
技術分野	電気・電子
機能	材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品	プラズマエッチング装置
目的	小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができるプラズマエッチング装置を提供する。
効果	ステージにウェハを設置させた状態でチャンバ内を真空引き部にて真空引きしつつ、ガス供給部へエッチングガスを供給し、このガス供給部からウェハにエッチングガスを供給するに際し、ステージに設置されるウェハを含む領域にステージプラズマ部にてプラズマを発生させ、エッチングガスをイオン化およびラジカル化させることができる。よって、ウェハに吹き付けられる直前のエッチングガスをイオン化およびラジカル化できるため、比較的小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができる。
技術概要	ウェハが設置されるステージと、 このステージを覆うチャンバと、 このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、 前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられエッチングガスをウェハに吹き付けるための管状のガス供給部と、 前記ステージに設けられ、このステージに設置されるウェハを含む領域にプラズマを発生させてエッチングガスをイオン化およびラジカル化させるステージプラズマ発生部と、 を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人産業技術総合研究所

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】