ノズル式のプラズマエッチング装置
- 開放特許情報番号
- L2014000891
- 開放特許情報登録日
- 2014/5/19
- 最新更新日
- 2018/4/23
基本情報
出願番号 | 特願2014-035544 |
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出願日 | 2014/2/26 |
出願人 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | |
公開日 | 2014/11/13 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
発明の名称 | ノズル式のプラズマエッチング装置 |
技術分野 | 電気・電子 |
機能 | 材料・素材の製造、機械・部品の製造 |
適用製品 | プラズマエッチング装置 |
目的 | 小さなウェハであっても精度良くエッチングできるプラズマエッチング装置を提供する。 |
効果 | ステージにウェハを設置させた状態でチャンバ内を真空引き部にて真空引きしつつ、ガス供給部へエッチングガスを供給し、このガス供給部内のエッチングガス中にノズルプラズマ発生部にてマイクロプラズマを発生させる際、マイクロプラズマ発生部で生成されるラジカルをウェハの表面まで効率良く輸送でき、また、エッチングガスを略均等に吹き付けさせるノズルのガス輸送効果も加わり、結果として、ラジカルをウェハに均等に吹き付けることができるから、比較的小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができる。 |
技術概要![]() |
ウェハが設置されるステージと、
このステージを覆うチャンバと、 このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、 前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられた管状のガス供給部と、 このガス供給部の先端側の内部に取り付けられ、このガス供給部から供給されるエッチングガスを前記ウェハへ略均等に吹き付けさせるノズルと、 前記ガス供給部に取り付けられ、このガス供給部内のエッチングガス中にマイクロプラズマを発生させるとともにラジカルを生成させるノズルプラズマ発生部と、 を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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