配位高分子化を利用するレアメタルの水系分別沈殿法

開放特許情報番号
L2014000673
開放特許情報登録日
2014/4/24
最新更新日
2018/12/24

基本情報

出願番号 特願2014-248272
出願日 2014/12/8
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2015-132016
公開日 2015/7/23
登録番号 特許第6411199号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 配位高分子化を利用するレアメタルの水系分別沈殿法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 配位高分子化を利用するレアメタルの水系分別沈殿法
目的 分離が困難である、インジウム、レアアースなどのレアメタルを選択的に低コストで分離する方法、特に、ネオジムイオンとジスプロシウムイオンを含有する水溶液から、ジスプロシウムイオンを選択的かつ低コストで分離する方法を提供する。
効果 分離が困難であるネオジムとジスプロシウムを分離することができる。また、分離に必要な溶媒は水のみであり、非常に低コストで簡便である。
技術概要
ジブチルリン酸エステル、リン酸水素=ビス[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]などの、水溶性のリン酸ジエステルを配位高分子形成剤として用い、レアメタルのイオンを含有する水溶液中で該イオンを選択的に配位高分子化することにより分別沈殿させて分離する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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