断層測定装置

開放特許情報番号
L2014000373
開放特許情報登録日
2014/2/19
最新更新日
2016/5/24

基本情報

出願番号 特願2011-181363
出願日 2011/8/23
出願人 国立大学法人 千葉大学
公開番号 特開2013-044592
公開日 2013/3/4
登録番号 特許第5911087号
特許権者 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 断層測定装置
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 断層測定装置
目的 同じ支持板の径(面積)であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置を提供する。
効果 支持反射部材に2回以上光を入射、反射させているため、支持反射部材が一つしか配置されていなくても光路差を効率的に確保でき、光路可変部材及び断層測定装置を小型化することができる。
また、支持反射部材の部品点数を少なくすることができ、断層測定装置の製造コストを低減することができる。
技術概要
光を放出する光源と、
前記光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、
前記第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、
前記第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、
前記結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、
前記光路可変部材は、
支持板と、
前記支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、
前記支持板上に配置される支持反射部材と、
前記支持反射部材から反射された光を再度前記支持反射部材に入射させる第一の固定反射部材と、
前記支持反射部材から再度反射された光を前記支持反射部材に反射して戻す第二の固定反射部材と、を有する断層測定装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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