断層測定装置
- 開放特許情報番号
- L2014000371
- 開放特許情報登録日
- 2014/2/19
- 最新更新日
- 2025/3/26
基本情報
| 出願番号 | 特願2011-185483 |
|---|---|
| 出願日 | 2011/8/29 |
| 出願人 | 国立大学法人 千葉大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2013/3/7 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人 千葉大学 |
| 発明の名称 | 断層測定装置 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造、検査・検出 |
| 適用製品 | 断層測定装置 |
| 目的 | 同じ支持板の半径（面積）であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置を提供する。 |
| 効果 | 断層測定装置として産業上の利用可能性があり、本発明によれば、同じ支持板の半径（面積）であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置となる。 |
技術概要) |
光を放出する光源と、
前記光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、 前記第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、 前記第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、 前記光結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、 前記光路可変部材は、 第一の支持板及び第二の支持板と、 前記第一の支持板を回転可能に支持する第一の回転支持部材と、 前記第二の支持板を回転可能に支持する第二の回転支持部材と、 前記第一の支持板に配置された第一の支持反射部材と、 前記第二の支持板に配置された第二の支持反射部材と、 固定反射部材と、を有し、 前記第一の支持反射部材に反射された第一の光が前記第二の支持反射部材に入射及び反射され、 前記第二の支持反射部材に反射された第一の光が前記固定反射部材に入射及び反射され、 前記第一の支持板と前記第二の支持板が反対方向に回転する断層測定装置。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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