| 出願番号 |
特願2011-267414 |
| 出願日 |
2011/12/6 |
| 出願人 |
国立大学法人 千葉大学 |
| 公開番号 |
特開2013-140191 |
| 公開日 |
2013/7/18 |
| 登録番号 |
特許第5901009号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 千葉大学 |
| 発明の名称 |
エレクトロクロミック表示素子の製造方法及びエレクトロクロミック表示素子 |
| 技術分野 |
情報・通信 |
| 機能 |
制御・ソフトウェア |
| 適用製品 |
エレクトロクロミック表示素子の製造方法及びエレクトロクロミック表示素子 |
| 目的 |
消え残りを低減したエレクトロクロミック表示素子及びエレクトロクロミック表示素子の製造方法を提供する。 |
| 効果 |
本発明によれば、消え残りを低減したエレクトロクロミック表示素子を提供することができる。
本発明によるＩＴＯナノ粒子膜空間は、消え残りの原因であるＤＢＶ↑（２+）の凝集を抑制する機能を持ち、消え残りの問題が解消された結果、着消色の繰り返し特性が大幅に改善された。 |
技術概要
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本発明の一観点に係るエレクトロミック表示素子の製造方法は、ＩＴＯナノ粒子を基板上に塗布する塗布工程と、基板を焼成する焼成工程と、を有する。
また、本発明の他の一観点に係るエレクトロクロミック表示素子は、一対の基板と、基板の対向する一対の面にそれぞれ形成される電極と、一対の基板間に挟持される媒体層と、を有するエレクトロクロミック表示素子であって、媒体層はビオロゲン化合物を含み、電極の少なくとも一方は、ＩＴＯナノ粒子を焼成した膜である。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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