光両性物質発生剤

開放特許情報番号
L2014000352
開放特許情報登録日
2014/2/19
最新更新日
2016/7/27

基本情報

出願番号 特願2012-052227
出願日 2012/3/8
出願人 国立大学法人 千葉大学
公開番号 特開2013-185107
公開日 2013/9/19
登録番号 特許第5946084号
特許権者 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 光両性物質発生剤
技術分野 化学・薬品、有機材料、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 光両性物質発生剤
目的 光両性物質発生剤についてはほとんど知られてなく、スルファニル酸イミド化合物以外の化学構造をもつ光両性物質発生剤は知られていなかった。スルファニル酸イミド化合物は、中性分子であり、水溶性に乏しく水系溶媒では用いることができなかった。また、その光分解の効率も高いものではなかった。
効果 従来報告されているスルファニル酸イミド化合物に対して、スルファニル酸イミド化合物以外の化学構造であるオニウム塩構造、特にトリフェニルスルホニウム塩は光分解性が高く、高効率の両性物質発生剤を創出することができる。
中性分子であるスルファニル酸イミド化合物の水溶性はほとんどなく、また一般的なオニウム塩構造を持つ光酸発生剤においても水溶性がないのに対し、本発明におけるオニウム塩構造をもつ光両性物質発生剤は水溶性であることを見出した。これにより光によるpH制御への応用が可能となった。
技術概要
フォトレジスト材料で良く知られ、また広く応用されている光酸発生剤の化学構造であるオニウム塩に注目し、この化学構造をもつ光両性物質発生剤を創出することに着目し、光によって酸塩基を効率よく制御できる水溶性の光両性物質発生剤を設計、合成した。これにより水溶液のpHの光制御を可能とした。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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