インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法

開放特許情報番号
L2014000266
開放特許情報登録日
2014/2/6
最新更新日
2017/10/26

基本情報

出願番号 特願2015-542536
出願日 2014/8/29
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2015/056487
公開日 2015/4/23
登録番号 特許第6192023号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法
技術分野 機械・加工、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法
目的 フォトリソグラフィ及びレーザー加工などの従来のポリイミド加工技術に比べて、加工形状及びその寸法精度において優れ、且つ簡便なポリイミドのパターン形成方法を提供する。
効果 従来困難であった矩形断面を有するサブマイクロメートルパターンの高精度作製も可能となり、この方法を用いることによって安価で品質に優れた実装配線基板および光学デバイス用部材を提供することができる。
技術概要
熱インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法において、
感光性を有する、ガラス転移温度以下での成形が可能な溶剤可溶性ポリイミド樹脂組成物を用いるとともに、モールド離型後であって、熱硬化の前に、紫外線を照射することを特徴とするポリイミドの微細パターン形成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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