導電性パターンの形成方法

開放特許情報番号
L2013002653
開放特許情報登録日
2013/12/27
最新更新日
2015/6/29

基本情報

出願番号 特願2013-186922
出願日 2013/9/10
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2014-195794
公開日 2014/10/16
発明の名称 導電性パターンの形成方法
技術分野 機械・加工、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 金属ナノ粒子インクの塗布による導電性パターンを形成する方法
目的 金属ナノ粒子インクを用いて、高精細で高導電性の導電性パターンを形成する方法を提供する。
効果 本発明によれば、金属ナノ粒子インクを用いて、簡単なコーティング方法により、高精細で低体積抵抗率の導電性回路パターンを形成できるので、大面積で高精細であることが要求される、半導体装置などの各種電子部品の金属配線の形成に、産業上有用である。
技術概要
基体上に形成された絶縁膜に対して、紫外線をパターン領域に照射した後、粒子表面がアルキルアミン、アルキルジアミン、若しくはその他の構造のアミンを含む有機分子層で保護された金属ナノ粒子を溶媒中に分散したインクを、前記基体上に塗布することにより、前記パターン領域に前記インクを付着・凝集させることを特徴とする導電性パターンの形成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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