目的
CVD法やPVD法等のような高エネルギーかつ高コストプロセスを用いることなく、省エネルギー、低コストで炭素系皮膜を形成することのできる炭素系皮膜形成方法や炭素系皮膜形成装置を提供する。
効果
本発明によれば、CVD法やPVD法等のような高エネルギーかつ高コストプロセスを用いることなく、比較的簡単な低コストの装置を用いた簡単な操作、低ランニングコストでDLC皮膜等の炭素系皮膜を形成することができる。
技術概要
金属体の表面が容器の内部空間に面するように前記金属体を保持し、炭化水素系ガスと複数の粒状体を前記内部空間に存在させた状態で前記容器を振動し、複数の粒状体を前記金属体の表面に衝突させて、前記金属体の表面に炭素系皮膜を形成する、炭素系皮膜の形成方法。
基本情報
開放特許情報
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