レーザー光フーリエ合成法及び装置

開放特許情報番号
L2013002636
開放特許情報登録日
2013/12/27
最新更新日
2015/6/26

基本情報

出願番号 特願2013-196982
出願日 2013/9/24
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2015-064425
公開日 2015/4/9
発明の名称 レーザー光フーリエ合成法及び装置
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 レーザー光フーリエ合成法及び装置
目的 各周波数成分の相対位相を、数学的にではなく簡便に決定して位相制御部を調整又は校正して、レーザー光フーリエ合成する方法及び装置を提供する。
効果 本発明では、分子のトンネルイオン化における配向選択効果を利用することにより、レーザー光フーリエ合成において、高調波の各周波数成分の相対位相を直感的に簡便に決定して制御することが可能となった。従来のような数学的に難解な解析を必要とせず、より直感的な理解に基づく位相決定が可能となった。
技術概要
各周波数成分の相対位相を制御して合成光を出力するレーザー光フーリエ合成法であって、
多色レーザーの光電場の異方性により生じる、配向選択性のある分子イオン化効果に基づいて、前記相対位相を決定して制御することを特徴とするレーザー光フーリエ合成法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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