| 出願番号 |
特願2015-529554 |
| 出願日 |
2014/7/25 |
| 出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
WO2015/016156 |
| 公開日 |
2015/2/5 |
| 登録番号 |
特許第6095027号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
光応答性の分散剤を含有する分散剤含有炭素材料膜、該分散剤含有炭素材料膜を用いた炭素材料膜の製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、無機材料、機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
光応答性の炭素材料分散剤を含有する分散剤含有炭素材料膜、該分散剤含有炭素材料膜を用いた炭素材料膜の製造方法、及び、該炭素材料膜の製造方法を含む電子・電気デバイスの製造方法 |
| 目的 |
分散剤を全く含有しないか、含有してもその含有量が極めて少ないCNT膜等の炭素材料膜を容易に形成することのできる分散剤含有炭素材料膜を提供する。
分散剤を全く含有しないか、含有してもその含有量が極めて少ないCNT膜等の炭素材料膜を容易に形成することのできる炭素材料膜又はパターン化炭素材料膜の製造方法を提供する。
酸素プラズマや酸性・塩基性の現像液等の除去手法が微細パターンを有するパターン化CNT膜等のパターン化炭素材料膜を容易に製造することができるパターン化炭素材料膜の製造方法を提供する。 |
| 効果 |
露光処理後、水などのリンス液でリンスするだけで、分散剤を全く含有しない炭素材料だけの膜か、分散剤を含有していても、その含有量が極めて少ない炭素材料膜を容易に得ることができる。それ故、製造される炭素材料膜は、炭素材料本来の性能、特性を効果的に発揮することができる。 |
技術概要
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下記一般式(Ｉ)で表されるスチルベン系又はアゾベンゼン系分散剤を含有する分散剤含有炭素材料膜であって、該膜中の前記分散剤が露光後のリンス液処理により除去可能であることを特徴とする分散剤含有炭素材料膜。
［式中、Ｒ↓1〜Ｒ↓6は、それぞれ独立して水素又は炭素数１〜５の直鎖状若しくは炭素数３〜６の分岐状アルキル基である。Ａは炭素原子又は窒素原子である。Ｘはアニオンである。ｎはｎＸが−２価となる数である。］ |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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